Химические способы очистки поверхностей полупроводниковых пластин Химические способы очистки поверхностей полупроводниковых пластинСтраница 6
Типичные загрязнения
полупроводниковых пластин и их источники
Таблица 1.
Загрязнения | Возможные источники |
Волокна (нейлон, целлюлоза и т. д.) |
Одежда, ткани, бумажные изделия |
Силикаты |
Горные породы, песок, почва, зола, пепел |
Окислы и окалина |
Продукты окисления некоторых металлов |
Масла и жиры |
Масла от машинной обработки, отпечатки пальцев, жиры с открытых участков тела, средства для волос, мази, лосьоны |
Силиконы |
Аэрозоли для волос, кремы, лосьоны после бритья, лосьоны для рук, мыло |
Металлы |
Порошки и отходы машинной обработки и шлифовки; изготовление металлических частей; частицы из металлических банок для хранения и металлических контейнеров |
Ионные примеси |
Продукты дыхания, отпечатки пальцев (хлорид натрия); примеси из очищающих растворов, содержащие ионные детергенты; некоторые флюсы; примеси от предварительной химической операции, такой, как травление или металлизация |
Неионные примеси |
Неионные детергенты, органические материалы для обработки |
Растворимые примеси |
Очищающие растворители и растворы |
ХАНСЕН (Hansen) Алвин (1887-1975) , американский экономист, представитель неокейнсианства. Сочинения по проблемам экономического цикла.
ЗЕРАВШАНСКИЙ ХРЕБЕТ , в системе Гиссаро-Алая, к югу от р. Зеравшан. Ок. 370 км, высота до 5489 м (г. Чимтарга). Ледники (площадь 307 км2). Карстовая пропасть Киевская (глубина 950 м).
ПЕЧЬ (лат . Fornax), созвездие Южного полушария